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TCU温度控制单元

无锡冠亚TCU温度控制系统可实现-120度~300度的动态控温,该系统采用现有的热能(如蒸汽、冷却水及超低温液体——即“初级系统”)基础设施集成到用来控制工艺设备温度的单流体系统或二级回路中。这就完成了只有一种热传导液体流入到反应容器的夹套中(而不是直接通入蒸汽、冷却水或超低温液体)。通过运算控制整个反应过程温度。通过三点采样(物料温度点、温控系统出口温度、温控系统进口温度),以及我司自创无模型自建树算法和一般抗滞后串级算法,解决制药化工控温大滞后问题。
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